“顶立科技VCVD-SIC立式化学气相沉积炉(碳化硅)”参数说明
是否有现货: | 否 | 认证: | ISO9001:2008 |
加工定制: | 是 | 品牌: | 顶立科技 |
类型: | 气相沉积炉 | 别名: | 立式化学气相沉积炉(碳化硅) |
适用范围: | 用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基 | 炉膛最高温度: | 1500 |
工作温度: | 1400 | 装载量: | 可定制 |
外形尺寸: | 可定制 | 型号: | VCVD-SIC |
规格: | 可定制 | 商标: | 顶立科技 |
包装: | 木箱等 | 产量: | 10 |
“顶立科技VCVD-SIC立式化学气相沉积炉(碳化硅)”详细介绍
参数\型号 |
VCVD-0305-SIC |
VCVD-0608-SIC |
VCVD-0812-SIC |
VCVD-1015-SIC |
VCVD-1120-SIC |
VCVD-1520-SIC |
工作区尺寸D×H(mm) |
Φ300×500 |
Φ600×800 |
Φ800×1200 |
Φ1000×1500 |
Φ1100×2000 |
Φ1500×2000 |
最高温度(℃) |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
温度均匀性(℃) |
±5 |
±5 |
±7.5 |
±7.5 |
±10 |
±10 |
极限真空度(Pa) |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
压升率(Pa/h) |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
以上立式化学气相沉积炉(碳化硅)参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。 |