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PHL膜厚测试仪/椭偏仪SE-101

产品/服务:
有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-09-10 22:12
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“PHL膜厚测试仪/椭偏仪SE-101”参数说明

是否有现货: 类别: 白光干涉测厚仪
品牌: phl 测量产品: 薄膜
显示方式: 数字显示

“PHL膜厚测试仪/椭偏仪SE-101”详细介绍

膜厚测试仪

椭偏仪

应力双折射仪,能够快速、精准测量双折射相位差及其空间分布和方向。广泛应用于玻璃、晶体、聚合物薄膜、镜片、晶片等质量分析和控制领域。  

日本Photonic-lattice公司成立于1996年,以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心,成立的合资公司,尤其是其光子晶体制造技术领先世界,并由此开发出的测量仪器。

根据应用不同,我们特别开发出5款不同的的膜厚测试仪/椭偏仪,每一款产品各具不同的特点。

PHL紧凑型桌面式椭偏仪   SE-101

型号

SE-101

重复性

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

0.05秒/测量点

光源

636nm 半导体激光器

测量点

1mm

入射角

70度

测量尺寸

4英寸,

仪器尺寸和重量

250x175x218.3mm/4kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V(50/60Hz)

软件

SE-View

凑型桌面式椭偏仪   SE-102

型号

SE-102

重复性

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

0.05秒/测量点

光源

636nm 半导体激光器

测量点

1mm

入射角

70度

测量尺寸

4英寸,1轴自动,2轴手动

仪器尺寸和重量

300x235x218.3mm/4kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V(50/60Hz)

软件

SE-View

快速映射椭偏仪   ME-110

型号

ME-110

重复性

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分钟1000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量点

0.5mm

入射角

70度

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重量

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V(50/60Hz)

软件

SE-View

型号

ME-110

重复性

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分钟1000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量点

0.0055-0.5mm

入射角

70度

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重量

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V(50/60Hz)

软件

SE-View

允许厚度分布的测量,例如,透明电极膜和取向膜与基底玻璃的透明基板

型号

ME-110-T

重复性

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分钟1000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量点

0.5mm

入射角

70度

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重量

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V(50/60Hz)

软件

SE-View

高速,高解析度的表面分布测量


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